Sputtering target Titanium 99.7 Gambar Unggulan

Sputtering menargetkan Titanium 99.7

Target Titanium Murni banyak digunakan dalam industri pelapisan vakum Multi-arc ion atau Magnetron Sputtering PVD untuk pelapisan PVD dekoratif atau pelapisan fungsional.Kami dapat memberi Anda kemurnian yang berbeda sesuai dengan kebutuhan Anda yang berbeda.

Bentuk: Target datar/pelat/silinder.

Kami juga dapat menyediakan: TiAl, Cr, Ti, Zr, Al, Ni, Cu, Mo dan target lainnya.

────────────────────────────────────────────────── ────

Bahan: Titanium murni, paduan Titanium

MOQ: 5 buah

Bentuk: Target bulat, Target planer

Ukuran stok: Φ98*45mm,Φ100*40mm

Aplikasi: Pelapisan untuk mesin PVD

PERMINTAAN PENAWARAN

Rincian produk

Label Produk

Deskripsi Produk

Bagaimana Cara Kerja Magnetron Sputtering?

Magnetron sputtering adalah metode pengendapan uap fisik (PVD), kelas proses pengendapan vakum untuk menghasilkan film tipis dan pelapis.
Nama "magnetron sputtering" muncul dari penggunaan medan magnet untuk mengontrol perilaku partikel ion bermuatan dalam proses pengendapan sputter magnetron.Prosesnya membutuhkan ruang vakum tinggi untuk menciptakan lingkungan bertekanan rendah untuk sputtering.Gas yang terdiri dari plasma, biasanya gas argon, memasuki ruangan terlebih dahulu.
Tegangan negatif tinggi diterapkan antara katoda dan anoda untuk memulai ionisasi gas inert.Ion argon positif dari plasma bertabrakan dengan bahan target bermuatan negatif.Setiap tumbukan partikel berenergi tinggi dapat menyebabkan atom dari permukaan target keluar ke lingkungan vakum dan mendorong ke permukaan substrat.

Medan magnet yang kuat menghasilkan densitas plasma yang tinggi dengan mengurung elektron di dekat permukaan target, meningkatkan laju pengendapan dan mencegah kerusakan substrat akibat bombardir ion.Sebagian besar material dapat bertindak sebagai target untuk proses sputtering karena sistem sputtering magnetron tidak memerlukan peleburan atau penguapan material sumber.

Parameter Produk

Nama produk	Sasaran titanium murni
Nilai	Gr1
Kemurnian	Lebih 99,7%
Kepadatan	4,5g/cm3
MOQ	5 buah
Ukuran penjualan panas	Φ9540mm Φ9845mm Φ10040mm Φ12845mm
Aplikasi	Pelapisan untuk mesin PVD
Ukuran stok	Φ9845mm Φ10040mm
Target lain yang tersedia	Molibdenum(Mo) Chrome(Cr) TiAl Tembaga(Cu) Zirkonium(Zr)

Aplikasi

■Melapisi sirkuit terpadu.
■Menampilkan panel permukaan panel datar dan komponen lainnya.
■Dekorasi dan lapisan kaca, dll.

Produk apa yang bisa kita hasilkan

■Target datar titanium dengan kemurnian tinggi (99,9%, 99,95%, 99,99%)
■Koneksi berulir standar untuk kemudahan pemasangan (M90, M80)
■Produksi mandiri, harga terjangkau (kualitas terkendali)

informasi pemesanan

Pertanyaan dan pesanan harus mencakup informasi berikut:

■ Diameter, Tinggi (seperti Φ100*40mm).
■ Ukuran benang (Seperti M90 * 2mm).
■ Kuantitas.
■ Permintaan kemurnian.